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HTGM01型气敏膜并行合成仪
    发布时间: 2022-04-01 16:31    
HTGM01型气敏膜并行合成仪

HTGM01型气敏膜并行合成仪

    HTGM01型气敏膜并行合成仪 [发明专利申请号201610899309.8],采用微滴预混转移技术,可高效实现气敏材料的掺杂、复合、表面改性,同步并行合成200种不同组分气敏膜,具体流程如下:通过蠕动泵将六个原料腔中的液体/悬浊液原料,输送到预混针头;并通过三维滑台控制预混针头插入到阵列预混腔中,控制各通道原料注入比例,实现多组分预混;对阵列预混腔超声混合均匀后,经转印针头逐个定点、定量转印到电极基片上;并对基片干燥烧结成膜。

该气敏膜并行合成仪的主要性能指标如下:

1. 同步并行合成气敏膜最大数量:200个;

2. 原料腔数量:6个;

3. 预混体积1.5 mL,精度0.002 mL

4. 转印成膜面积:0.4-1 mm 直径可调;膜厚:1-3 um(可调);

        5. 成膜时间不大于5分钟/样。

气敏膜并行合成仪实物图

       RGB三色颜料10组分重复10次预混照片           SnO2-WO3-Co3O4共混72组分转印成膜烧结后照片

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